更新時(shí)間：2024-09-29
產(chǎn)品說(shuō)明、技術(shù)參數(shù)及配置系統(tǒng)介紹通過(guò)對(duì)X射線熒光光譜分析儀的自動(dòng)化控制，提供了一個(gè)全面的自動(dòng)化檢測(cè)平臺(tái)，利用人工智能技術(shù)實(shí)現(xiàn)對(duì)樣品的24小時(shí)不間斷檢測(cè)及分析。產(chǎn)品特點(diǎn)完整日志： 實(shí)驗(yàn)過(guò)程全程記錄，可追溯；錯(cuò)誤機(jī)制： 涵蓋通訊、邏輯等各方面錯(cuò)誤，確保實(shí)驗(yàn)可控；工作模式： 搶先式運(yùn)行無(wú)需等待,按照順序工作，確保高效作業(yè)；旋轉(zhuǎn)平臺(tái)： 無(wú)需搬動(dòng)XRF儀器即可自由轉(zhuǎn)至人工工作狀態(tài)；
系統(tǒng)介紹
通過(guò)對(duì)X射線熒光光譜分析儀的自動(dòng)化控制，提供了一個(gè)全面的自動(dòng)化檢測(cè)平臺(tái)，利用人工智能技術(shù)實(shí)現(xiàn)對(duì)樣品的24小時(shí)不間斷檢測(cè)及分析。
產(chǎn)品特點(diǎn)
完整日志： 實(shí)驗(yàn)過(guò)程全程記錄，可追溯；
錯(cuò)誤機(jī)制： 涵蓋通訊、邏輯等各方面錯(cuò)誤，確保實(shí)驗(yàn)可控；
工作模式： 搶先式運(yùn)行無(wú)需等待,按照順序工作，確保高效作業(yè)；
旋轉(zhuǎn)平臺(tái)： 無(wú)需搬動(dòng)XRF儀器即可自由轉(zhuǎn)至人工工作狀態(tài)；
高效產(chǎn)能： 每12小時(shí)可高達(dá)720只；
定制杯體： 可定制不同尺寸的樣品杯，有效解決大小樣品的檢測(cè)居中問(wèn)題；
兼容數(shù)量： 兼容兩臺(tái)或四臺(tái)XRF本體，其他數(shù)量可做定制。
技術(shù)參數(shù)
型 號(hào) | PHS200EDX | PHS400EDX |
XRF設(shè)備 | 2臺(tái) | 4臺(tái) |
一次性進(jìn)樣量 | 270個(gè)樣品 | 540個(gè)樣品 |
12小時(shí)測(cè)量樣品數(shù) | 180-360個(gè) | 360-720個(gè) |
機(jī)械臂品牌 | 可搭配國(guó)產(chǎn)品牌/進(jìn)口品牌 | |
國(guó)產(chǎn)機(jī)械臂參數(shù) | 機(jī)械臂重復(fù)定位精度±0.05mm | |
進(jìn)口機(jī)械臂參數(shù) | 機(jī)械臂重復(fù)定位精度±0.03mm | |
設(shè)備尺寸（長(zhǎng)×寬×高） | 2700mm×1240mm×1850mm | 2700mm×2000mm×1850mm |
主電源 | 220V AC，50Hz | |
氣 源 | 主氣源供氣氣壓控制在0.35MPa-1MPa之間 | |
電 腦 | WIN7 64位操作系統(tǒng)以上， 4G內(nèi)存條以上 | |
配 件 | 樣品專用盤、樣品杯 | |
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